ohne Drittmittelfinanzierung
Untersuchung von on-wafer S-Parametermeßtechnik und FET Kleinsignalersatzschaltbildextraktionsverfahren
Details zum Projekt
Projektlaufzeit: 01/1993–12/2002
Zusammenfassung
Untersuchung unterschiedlicher Kalibrationsverfahren für die on-wafer S-Parametermeßtechnik. Vergleich unterschiedlicher Verfahren für die Extraktion der FET Kleinsignalersatzschaltbildelemente. Die Grundlagen hierfür sind etabliert, schwerpunktmässig wird jetzt die Modellierung modernster Sub-Mikrometer-Bauelemente verfolgt, speziell auf der Grundlage ultrabreitbandiger 'on-wafer'- Messdaten bis 120 GHz.
