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Entwicklung neuartiger Trockenätzverfahren für III/V-Halbleiter
Project Details
Project duration: 01/2000–12/2004
Abstract
Moderne optische bzw. mikromechanische Bauelemente stellen oft extrem hohe Anforderungen an die Strukturierungsverfahren. Ziel des Projektes ist die Entwicklung von plasmaunterstützten Verfahren mit neuartigen Prozessgasen.
