Aufsatz in einer Fachzeitschrift
Deep single step vertical ICP--RIE etching of ion beam sputter deposited SiO2/Si multilayer stacks
Details zur Publikation
Autor(inn)en: | Messow, F.; Welch, C.; Eifert, A.; Ang, W.; Hoe, N.; Kusserow, T.; Hillmer, H. |
Publikationsjahr: | 2014 |
Zeitschrift: | Microelectronic Engineering |
Seitenbereich: | 70-73 |
Jahrgang/Band : | 113 |
ISSN: | 0167-9317 |
Schlagwörter
ICP--RIE etching, Ion beam sputter deposition, SiO2/Si multilayer stack, Thin film
