Aufsatz in einer Fachzeitschrift

High-resolution photoemission studies at rough Cu(111) surfaces: the influence of defect scattering and disorder-dependent dephasing processes



Details zur Publikation
Autor(inn)en:
Theilmann, F.; Matzdorf, R.; Goldmann, A.

Publikationsjahr:
1999
Zeitschrift:
Surface Science
Seitenbereich:
33-42
Jahrgang/Band :
420
ISSN:
0039-6028
DOI-Link der Erstveröffentlichung:




Schlagwörter
angle-resolved photoemission, chemical vapour deposition, copper, electronic surface states, epitaxy, low-energy electron diffraction (SPALEED), low-index single crystal surfaces


Autor(inn)en / Herausgeber(innen)

Zuletzt aktualisiert 2024-05-08 um 09:28